1. <small id="79q7h"></small>

      1. <td id="79q7h"></td>
        <small id="79q7h"><input id="79q7h"></input></small>
            1. <source id="79q7h"><tr id="79q7h"></tr></source>
              <p id="79q7h"><ins id="79q7h"><label id="79q7h"></label></ins></p>

                  1. 日韩精品一区二区久久_亚洲精品久久久久国色天香_中文人妻aⅴ一区二区三区_91人人艹_来一水AV@lysav

                    技術(shù)文章您的位置:網(wǎng)站首頁(yè) >技術(shù)文章 >光刻膠軟烘

                    光刻膠軟烘

                    更新時(shí)間:2020-11-23   點(diǎn)擊次數(shù):2768次

                    軟烘的目的是去掉光刻膠中的溶劑、增強(qiáng)光刻膠的粘附性、釋放旋轉(zhuǎn)涂膠產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力、改善線寬控制、防止光刻膠粘附到其他器件上。軟烘在真空熱板上進(jìn)行,軟烘設(shè)備工作原理如圖2.17所示,硅片放在真空熱板上,熱量從硅片背面通過熱傳導(dǎo)方式加熱光刻膠。一般軟烘溫度為85~120℃,時(shí)間為30~60S。軟烘后將硅片轉(zhuǎn)移到軌道系統(tǒng)的冷板上冷卻以便下一步操作。

                    以光學(xué)紫外曝光為例,首先將硅片定位在光學(xué)系統(tǒng)的聚焦范圍內(nèi),硅片的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與掩模版上相匹配的標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)后,紫外光通過光學(xué)系統(tǒng)和掩模版圖形進(jìn)行投影。掩模版圖形若以亮暗的特征出現(xiàn)在硅片上,這樣光刻膠就曝光了。

                    日韩精品一区二区久久_亚洲精品久久久久国色天香_中文人妻aⅴ一区二区三区_91人人艹_来一水AV@lysav
                    1. <small id="79q7h"></small>

                      1. <td id="79q7h"></td>
                        <small id="79q7h"><input id="79q7h"></input></small>
                            1. <source id="79q7h"><tr id="79q7h"></tr></source>
                              <p id="79q7h"><ins id="79q7h"><label id="79q7h"></label></ins></p>

                                  1. 江口县| 类乌齐县| 五家渠市| 吴川市| 当涂县| 昌邑市| 徐州市| 万州区| 红桥区| 上饶县| 丹寨县| 大荔县| 资阳市| 平凉市| 志丹县| 环江| 南召县| 吉隆县| 台中市| 垣曲县| 唐海县| 喀什市| 承德市| 盐池县| 新竹市| 长沙市| 灵台县| 射阳县| 彝良县| 稷山县| 漳州市| 嘉鱼县| 长泰县| 大兴区| 宜兰市| 溆浦县| 宜州市| 随州市| 潼南县| 永修县| 上思县|